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    產品介紹

    氧化層硅片

    熱氧化厚膜以優越的表面潔凈度與安定的質量獲得全世界最高的市占率。


    熱氧化厚膜以優越的表面潔凈度與安定的質量獲得全世界最高的市占率。


    產品介紹

    “氧化層硅片”用途

    Undercladding wafer for AWG

    在數組波導光柵(AWG)里,被稱為Under clad層之最下層的SiO2膜對生產良率有著非常大的決定性作用。 

    59356d7e14500.jpg

    soi.jpgsoi structured 1.jpg

    應用1.jpgsoi structured 2.jpg

    §保證規格

    項目

    規格

    膜厚

    20um±5%(最大膜厚度)

    面內均一性

    ±0.5%

    面間均一性

    ±0.5%

    折射率(@1550nm)

    1.4458±0.0001


    §標準品一覽

    尺寸

    晶圓厚度

    熱氧化膜厚度

    4inch

    525um 1mm

    15um、20um

    6inch

    625um 675um 1mm

    15um、20um

    8inch

    725um

    15um、20um

    12inch

    775um

    15um


    其他晶圓尺寸以及膜厚依顧客需求定制(厚度范圍 :0.1-30μm)

    §折射率面內分布表面粗度數據

    圖片1.png    


    §無塵室

    未標題-1.jpg      

    “氧化層硅片”用途

    Undercladding wafer for AWG

    在數組波導光柵(AWG)里,被稱為Under clad層之最下層的SiO2膜對生產良率有著非常大的決定性作用。 

    59356d7e14500.jpg

    soi.jpgsoi structured 1.jpg

    應用1.jpgsoi structured 2.jpg

    §保證規格

    項目

    規格

    膜厚

    20um±5%(最大膜厚度)

    面內均一性

    ±0.5%

    面間均一性

    ±0.5%

    折射率(@1550nm)

    1.4458±0.0001


    §標準品一覽

    尺寸

    晶圓厚度

    熱氧化膜厚度

    4inch

    525um 1mm

    15um、20um

    6inch

    625um 675um 1mm

    15um、20um

    8inch

    725um

    15um、20um

    12inch

    775um

    15um


    其他晶圓尺寸以及膜厚依顧客需求定制(厚度范圍 :0.1-30μm)

    §折射率面內分布表面粗度數據

    圖片1.png    


    §無塵室

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